Государственный тендер Открыт

Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

На английском: A plasma reactive ion etching equipment for metals for the Centre de MicroNanoTechnologie

Полное извещение и документы: начните бесплатный пробный период

14 дней бесплатно. Карта не нужна.

Заказчик
EPFL-Scientific Equipment
Страна
Швейцария
Срок подачи
12 нояб. 2026 г.через 12 дн.
Отрасль
Производство и промышленные поставки
Код CPV
38000000 Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
Опубликовано
6 окт. 2026 г.

Полное описание, документы, контакты заказчика и ссылка на официальный портал доступны в бесплатном пробном периоде.

Другие тендеры в Швейцарии

Похожие открытые тендеры

  1. Beschaffung eines cryo-konfokalen Fluoreszenzmikroskops
    Institut für Biochemie und Molekulare Medizin Срок подачи: 2 нояб. 2026 г.
  2. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment Срок подачи: 4 нояб. 2026 г.
  3. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Срок подачи: 4 нояб. 2026 г.
  4. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel Срок подачи: 6 нояб. 2026 г.
  5. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie Срок подачи: 7 нояб. 2026 г.
  6. Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Срок подачи: 10 нояб. 2026 г.
  7. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Срок подачи: 11 нояб. 2026 г.
  8. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS Срок подачи: 11 нояб. 2026 г.