公共入札 受付中

Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie

英語: A plasma reactive ion etching equipment for metals for the Centre de MicroNanoTechnologie

公告全文と資料を見る：無料トライアルを始める

14日間の無料トライアル。カードは不要です。

発注者
EPFL-Scientific Equipment
国
スイス
締切
2026/11/1212日後
分野
製造・産業供給
CPVコード
38000000 Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
公開日
2026/10/06

詳細な説明、資料、発注機関の連絡先、公式ポータルへのリンクは無料トライアルでご覧いただけます。

その他の入札：スイス

類似の受付中の入札

  1. Beschaffung eines cryo-konfokalen Fluoreszenzmikroskops
    Institut für Biochemie und Molekulare Medizin 締切: 2026/11/02
  2. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment 締切: 2026/11/04
  3. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) 締切: 2026/11/04
  4. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel 締切: 2026/11/06
  5. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie 締切: 2026/11/07
  6. Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services 締切: 2026/11/10
  7. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services 締切: 2026/11/11
  8. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS 締切: 2026/11/11