Appel d’offres public Ouvert

Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System

Voir l’avis complet et les documents : commencer l’essai gratuit

14 jours d’essai gratuit. Sans carte.

Acheteur
ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
Pays
Suisse
Date limite
10 nov. 2026dans 11 jours
Secteur
Fabrication et fournitures industrielles
Code CPV
38000000 Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)
Publié
2 oct. 2026

La description complète, les documents, les contacts de l’acheteur et le lien vers le portail officiel sont accessibles avec l’essai gratuit.

Plus d’appels d’offres en Suisse

Appels d’offres ouverts similaires

  1. Beschaffung eines cryo-konfokalen Fluoreszenzmikroskops
    Institut für Biochemie und Molekulare Medizin Date limite: 2 nov. 2026
  2. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment Date limite: 4 nov. 2026
  3. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Date limite: 4 nov. 2026
  4. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel Date limite: 6 nov. 2026
  5. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie Date limite: 7 nov. 2026
  6. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Date limite: 11 nov. 2026
  7. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS Date limite: 11 nov. 2026
  8. Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie
    EPFL-Scientific Equipment Date limite: 12 nov. 2026