Veřejná zakázka Otevřená
Ein Plasma-Ätzsystem (Reactive Ion Etching, RIE) für das Center of MicroNanoTechnology
Anglicky: A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology
- Lhůta
- 12. 11. 2026za 9 dní
- Zadavatel
- EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)
Zobrazit celé oznámení a dokumenty: začněte zkušební verzi zdarma
14 dní zkušební verze zdarma. Bez karty.
EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) (Švýcarsko) vyhlašuje tuto zakázku a přijímá nabídky. Nabídky je třeba podat do 12. 11. 2026.
- Zadavatel
- EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)
- Země
- Švýcarsko
- Lhůta
- 12. 11. 2026za 9 dní
- Obor
- Výroba a průmyslové dodávky
- Kód CPV
- 38000000 Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel)
- Zveřejněno
- 3. 10. 2026
Úplný popis, dokumenty, kontakty zadavatele a odkaz na oficiální portál jsou dostupné ve zkušební verzi zdarma.
Další zakázky: Švýcarsko · Průmysl: veřejné zakázky (Švýcarsko)
Podobné otevřené zakázky
-
Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
EPFL-Scientific Equipment Lhůta: 4. 11. 2026
-
A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Lhůta: 4. 11. 2026
-
Cryogenic Probe Station.
Universität Basel Lhůta: 6. 11. 2026
-
High-resolution mass spectrometer
Departement Chemie Lhůta: 7. 11. 2026
-
Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Lhůta: 10. 11. 2026
-
Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Lhůta: 11. 11. 2026
-
Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
ETH Zürich - D-EAPS Lhůta: 11. 11. 2026
-
A plasma reactive ion etching equipment for metals for the Centre de MicroNanoTechnologie
EPFL-Scientific Equipment Lhůta: 12. 11. 2026