Licitación pública Abierta

Ein Plasma-Ätzsystem (Reactive Ion Etching, RIE) für das Center of MicroNanoTechnology

En inglés: A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology

Plazo
12 nov 2026en 9 días
Comprador
EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)
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EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) (Suiza) invita a presentar ofertas para esta licitación. Las ofertas se presentan hasta el 12 nov 2026.

Comprador
EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)
País
Suiza
Plazo
12 nov 2026en 9 días
Sector
Fabricación y suministro industrial
Código CPV
38000000 Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)
Publicado
3 oct 2026

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