Offentligt udbud Åbent

Ein Plasma-Ätzsystem (Reactive Ion Etching, RIE) für das Center of MicroNanoTechnology

På engelsk: A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology

Frist
12. nov. 2026om 9 dage
Køber
EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)

EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) (Schweiz) indhenter tilbud i dette udbud. Fristen for tilbud er 12. nov. 2026.

Køber
EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)
Land
Schweiz
Frist
12. nov. 2026om 9 dage
Branche
Fremstilling og industriforsyning
CPV-kode
38000000 Laboratorieudstyr, optisk udstyr og præcisionsudstyr (ikke briller)
Offentliggjort
3. okt. 2026

Den fulde beskrivelse, dokumenterne, ordregiverens kontaktoplysninger og linket til den officielle portal åbner i den gratis prøveperiode.

Flere udbud: Schweiz · Udbud produktion: Schweiz

Lignende åbne udbud

  1. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment Frist: 4. nov. 2026
  2. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Frist: 4. nov. 2026
  3. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel Frist: 6. nov. 2026
  4. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie Frist: 7. nov. 2026
  5. Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Frist: 10. nov. 2026
  6. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Frist: 11. nov. 2026
  7. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS Frist: 11. nov. 2026
  8. A plasma reactive ion etching equipment for metals for the Centre de MicroNanoTechnologie
    EPFL-Scientific Equipment Frist: 12. nov. 2026