Appel d’offres public Ouvert

Ein Plasma-Ätzsystem (Reactive Ion Etching, RIE) für das Center of MicroNanoTechnology

En anglais: A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology

Date limite
12 nov. 2026dans 9 jours
Acheteur
EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)
Voir l’avis complet et les documents : commencer l’essai gratuit

14 jours d’essai gratuit. Sans carte.

EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) (Suisse) lance un appel d’offres pour ce marché. Les offres sont à remettre avant le 12 nov. 2026.

Acheteur
EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)
Pays
Suisse
Date limite
12 nov. 2026dans 9 jours
Secteur
Fabrication et fournitures industrielles
Code CPV
38000000 Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)
Publié
3 oct. 2026

La description complète, les documents, les contacts de l’acheteur et le lien vers le portail officiel sont accessibles avec l’essai gratuit.

Plus d’appels d’offres en Suisse · Appels d’offres industrie en Suisse

Appels d’offres ouverts similaires

  1. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment Date limite: 4 nov. 2026
  2. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Date limite: 4 nov. 2026
  3. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel Date limite: 6 nov. 2026
  4. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie Date limite: 7 nov. 2026
  5. Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Date limite: 10 nov. 2026
  6. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Date limite: 11 nov. 2026
  7. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS Date limite: 11 nov. 2026
  8. Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie
    EPFL-Scientific Equipment Date limite: 12 nov. 2026