Gara pubblica Aperta

Ein Plasma-Ätzsystem (Reactive Ion Etching, RIE) für das Center of MicroNanoTechnology

In inglese: A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology

Scadenza
12 nov 2026tra 9 giorni
Acquirente
EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)

EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) (Svizzera) invita a presentare offerte per questa gara. Le offerte vanno presentate entro il 12 nov 2026.

Acquirente
EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi)
Paese
Svizzera
Scadenza
12 nov 2026tra 9 giorni
Settore
Produzione e forniture industriali
Codice CPV
38000000 Attrezzature da laboratorio, ottiche e di precisione (escluso vetri)
Pubblicato
3 ott 2026

La descrizione completa, i documenti, i contatti dell’acquirente e il link al portale ufficiale sono disponibili con la prova gratuita.

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