Δημόσιος διαγωνισμός Ανοιχτός

Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System

Προθεσμία
10 Νοε 2026σε 7 ημέρες
Αγοραστής
ETH Zürich
Δείτε την πλήρη προκήρυξη και τα έγγραφα: ξεκινήστε τη δωρεάν δοκιμή

Δωρεάν δοκιμή 14 ημερών. Χωρίς κάρτα.

Ο φορέας ETH Zürich (Ελβετία) καλεί σε υποβολή προσφορών για αυτόν τον διαγωνισμό. Οι προσφορές υποβάλλονται έως 10 Νοε 2026.

Αγοραστής
ETH Zürich
Χώρα
Ελβετία
Προθεσμία
10 Νοε 2026σε 7 ημέρες
Κλάδος
Μεταποίηση και βιομηχανικός εφοδιασμός
Κωδικός CPV
38000000 Εξοπλισμός εργαστηριακός, οπτικός και ακριβείας (εκτός από γυαλιά)
Δημοσιεύθηκε
1 Οκτ 2026

Η πλήρης περιγραφή, τα έγγραφα, τα στοιχεία επικοινωνίας της αναθέτουσας αρχής και ο σύνδεσμος προς την επίσημη πύλη είναι διαθέσιμα με τη δωρεάν δοκιμή.

Περισσότεροι διαγωνισμοί: Ελβετία · Βιομηχανία: διαγωνισμοί (Ελβετία)

Παρόμοιοι ανοιχτοί διαγωνισμοί

  1. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment Προθεσμία: 4 Νοε 2026
  2. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Προθεσμία: 4 Νοε 2026
  3. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel Προθεσμία: 6 Νοε 2026
  4. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie Προθεσμία: 7 Νοε 2026
  5. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Προθεσμία: 11 Νοε 2026
  6. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS Προθεσμία: 11 Νοε 2026
  7. A plasma reactive ion etching equipment for metals for the Centre de MicroNanoTechnologie
    EPFL-Scientific Equipment Προθεσμία: 12 Νοε 2026
  8. A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Προθεσμία: 12 Νοε 2026