Licitação pública Aberta

Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System

Prazo
10 de nov. de 2026em 7 dias
Comprador
ETH Zürich
Veja o edital completo e os documentos: comece o teste grátis

Teste grátis de 14 dias. Sem cartão.

ETH Zürich (Suíça) convida à apresentação de propostas para esta licitação. As propostas devem ser entregues até 10 de nov. de 2026.

Comprador
ETH Zürich
País
Suíça
Prazo
10 de nov. de 2026em 7 dias
Setor
Fabricação e fornecimento industrial
Código CPV
38000000 Equipamento laboratorial, óptico e de precisão (exc. óculos)
Publicado
1 de out. de 2026

A descrição completa, os documentos, os contatos do comprador e o link para o portal oficial ficam disponíveis no teste grátis.

Mais licitações na Suíça · Licitações de indústria na Suíça

Licitações abertas semelhantes

  1. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment Prazo: 4 de nov. de 2026
  2. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Prazo: 4 de nov. de 2026
  3. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel Prazo: 6 de nov. de 2026
  4. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie Prazo: 7 de nov. de 2026
  5. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Prazo: 11 de nov. de 2026
  6. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS Prazo: 11 de nov. de 2026
  7. A plasma reactive ion etching equipment for metals for the Centre de MicroNanoTechnologie
    EPFL-Scientific Equipment Prazo: 12 de nov. de 2026
  8. A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Prazo: 12 de nov. de 2026