Licitație publică Deschisă

Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System

Termen limită
10 nov. 2026în 7 zile
Cumpărător
ETH Zürich
Vedeți anunțul complet și documentele: începeți perioada de probă gratuită

Perioadă de probă gratuită de 14 zile. Fără card.

ETH Zürich (Elveția) solicită oferte pentru această licitație. Ofertele se depun până la 10 nov. 2026.

Cumpărător
ETH Zürich
Țară
Elveția
Termen limită
10 nov. 2026în 7 zile
Sector
Producție și aprovizionare industrială
Cod CPV
38000000 Echipamente de laborator, optice şi de precizie (cu excepţia ochelarilor)
Publicat
1 oct. 2026

Descrierea completă, documentele, datele de contact ale autorității contractante și linkul către portalul oficial sunt disponibile în perioada de probă gratuită.

Mai multe licitații: Elveția · Producție: licitații (Elveția)

Licitații deschise similare

  1. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment Termen limită: 4 nov. 2026
  2. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Termen limită: 4 nov. 2026
  3. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel Termen limită: 6 nov. 2026
  4. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie Termen limită: 7 nov. 2026
  5. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Termen limită: 11 nov. 2026
  6. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS Termen limită: 11 nov. 2026
  7. A plasma reactive ion etching equipment for metals for the Centre de MicroNanoTechnologie
    EPFL-Scientific Equipment Termen limită: 12 nov. 2026
  8. A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Termen limită: 12 nov. 2026