Veřejná zakázka Otevřená

Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System

Lhůta
10. 11. 2026za 7 dní
Zadavatel
ETH Zürich
Zobrazit celé oznámení a dokumenty: začněte zkušební verzi zdarma

14 dní zkušební verze zdarma. Bez karty.

ETH Zürich (Švýcarsko) vyhlašuje tuto zakázku a přijímá nabídky. Nabídky je třeba podat do 10. 11. 2026.

Zadavatel
ETH Zürich
Země
Švýcarsko
Lhůta
10. 11. 2026za 7 dní
Obor
Výroba a průmyslové dodávky
Kód CPV
38000000 Laboratorní, optické a přesné přístroje a zařízení (mimo skel)
Zveřejněno
1. 10. 2026

Úplný popis, dokumenty, kontakty zadavatele a odkaz na oficiální portál jsou dostupné ve zkušební verzi zdarma.

Další zakázky: Švýcarsko · Průmysl: veřejné zakázky (Švýcarsko)

Podobné otevřené zakázky

  1. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment Lhůta: 4. 11. 2026
  2. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Lhůta: 4. 11. 2026
  3. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel Lhůta: 6. 11. 2026
  4. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie Lhůta: 7. 11. 2026
  5. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Lhůta: 11. 11. 2026
  6. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS Lhůta: 11. 11. 2026
  7. A plasma reactive ion etching equipment for metals for the Centre de MicroNanoTechnologie
    EPFL-Scientific Equipment Lhůta: 12. 11. 2026
  8. A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Lhůta: 12. 11. 2026