Julkinen hankinta Avoin

Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System

Määräaika
10.11.20267 päivän kuluttua
Hankintayksikkö
ETH Zürich
Katso koko ilmoitus ja asiakirjat: aloita ilmainen kokeilu

14 päivän ilmainen kokeilu. Korttia ei tarvita.

ETH Zürich (Sveitsi) pyytää tarjouksia tähän hankintaan. Tarjoukset on jätettävä viimeistään 10.11.2026.

Hankintayksikkö
ETH Zürich
Maa
Sveitsi
Määräaika
10.11.20267 päivän kuluttua
Ala
Valmistus ja teollisuustarvikkeet
CPV-koodi
38000000 Laboratoriolaitteet, optiset ja tarkkuuslaitteet (lukuun ottamatta silmälaseja)
Julkaistu
1.10.2026

Koko kuvaus, asiakirjat, hankintayksikön yhteystiedot ja linkki viralliseen portaaliin avautuvat ilmaisessa kokeilussa.

Lisää tarjouspyyntöjä: Sveitsi · Teollisuus: tarjouspyynnöt (Sveitsi)

Samankaltaiset avoimet tarjouspyynnöt

  1. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment Määräaika: 4.11.2026
  2. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Määräaika: 4.11.2026
  3. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel Määräaika: 6.11.2026
  4. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie Määräaika: 7.11.2026
  5. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Määräaika: 11.11.2026
  6. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS Määräaika: 11.11.2026
  7. A plasma reactive ion etching equipment for metals for the Centre de MicroNanoTechnologie
    EPFL-Scientific Equipment Määräaika: 12.11.2026
  8. A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Määräaika: 12.11.2026