Przetarg publiczny Otwarty

Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System

Termin
10 lis 2026za 7 dni
Zamawiający
ETH Zürich
Zobacz pełne ogłoszenie i dokumenty: rozpocznij bezpłatny okres próbny

14 dni bezpłatnego okresu próbnego. Bez karty.

ETH Zürich (Szwajcaria) zaprasza do składania ofert w tym przetargu. Termin składania ofert: 10 lis 2026.

Zamawiający
ETH Zürich
Kraj
Szwajcaria
Termin
10 lis 2026za 7 dni
Branża
Produkcja i dostawy przemysłowe
Kod CPV
38000000 Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)
Opublikowano
1 paź 2026

Pełny opis, dokumenty, kontakty zamawiającego i link do oficjalnego portalu są dostępne w bezpłatnym okresie próbnym.

Więcej przetargów w Szwajcarii · Przetargi przemysłowe w Szwajcarii

Podobne otwarte przetargi

  1. Un système de pulvérisation cathodique dédié à la déposition de couches minces supraconductrices de haute qualité
    EPFL-Scientific Equipment Termin: 4 lis 2026
  2. A sputter deposition system, specifically for the production of high-quality superconducting thin films
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Termin: 4 lis 2026
  3. Cryogenic Probe Station.
    Universität Basel Termin: 6 lis 2026
  4. High-resolution mass spectrometer
    Departement Chemie Termin: 7 lis 2026
  5. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis in geological samples
    ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services Termin: 11 lis 2026
  6. Scanning electron microscope for imaging and quantitative analysis of geological samples
    ETH Zürich - D-EAPS Termin: 11 lis 2026
  7. A plasma reactive ion etching equipment for metals for the Centre de MicroNanoTechnologie
    EPFL-Scientific Equipment Termin: 12 lis 2026
  8. A plasma etching system (Reactive Ion Etching, RIE) for the Center of MicroNanoTechnology
    EPFL – Center of MicroNanoTechnology (CMi) Termin: 12 lis 2026